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Eksma 防反射鍍膜

簡要描述：Eksma 防反射鍍膜
這些多層抗反射鍍膜設計用于將一個非常特定的波長的組件的反射率降低到接近零。因此，寶貴的激光能量可以通過復雜的光學系統(tǒng)有效透射，而不會因為眩光和散射而丟失。我們的抗反射（AR）鍍膜旨在按正常入射使用，以這種方式使用時將實現(xiàn)較大的效率透射。

  • 產(chǎn)品品牌：Eksma
  • 廠商性質(zhì)：代理商
  • 更新時間：2021-03-22
  • 訪  問  量：867

產(chǎn)品分類

Product Category

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詳細介紹

品牌Eksma價格區(qū)間面議
組件類別光學元件應用領域醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,化工,電子,綜合

Eksma 防反射鍍膜




Eksma 防反射鍍膜

這些多層抗反射鍍膜設計用于將一個非常特定的波長的組件的反射率降低到接近零。

產(chǎn)品介紹

這些多層抗反射鍍膜設計用于將一個非常特定的波長的組件的反射率降低到接近零。因此，寶貴的激光能量可以通過復雜的光學系統(tǒng)有效透射，而不會因為眩光和散射而丟失。我們的抗反射（AR）鍍膜旨在按正常入射使用，以這種方式使用時將實現(xiàn)較大的效率透射。

EKSMA OPTICS是激光，激光系統(tǒng)和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學，工業(yè)，醫(yī)學，美學，軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長范圍從紫外（193 nm）到可見光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲（THz）范圍的激光光學組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用，激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體，光機械，帶驅(qū)動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應商，它們用于激光器和其他應用光學儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領域開始其一項業(yè)務，其基礎是在激光和光學領域的長期專業(yè)知識。
公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實驗室的高質(zhì)量測試和認證。 通過嚴格的檢查程序，質(zhì)量控制評估以及對新技術的承諾，我們不斷改進并提供優(yōu)良的質(zhì)量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001：2015認證。 必維檢驗集團（Bureau Veritas）頒發(fā)的認證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設備和擴展制造能力。
公司擁有：?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割，研磨和拋光設備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中，鏡頭由N-BK7，S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學和晶體的，超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設備–基于BBO，DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。

產(chǎn)品型號

ø25.4 mm光學元件的價格表

激光線抗反射鍍膜

型號

基材尺寸

波長

R,%(AOI=0°)

LIDT激光損傷閾值

AR266

≤ ø 25.4 mm

266 nm

R<0.4%

1 J/cm²

AR343

≤ ø 25.4 mm

333-353 nm

R<0.5%

3 J/cm²

AR343HT

≤ ø 25.4 mm

333-353 nm

R<0.2%

4 J/cm²

AR355

≤ ø 25.4 mm

355 nm

R<0.25%

3 J/cm²

AR355HT

≤ ø 25.4 mm

355 nm

R<0.2%

4 J/cm²

AR400

≤ ø 25.4 mm

380-420 nm

R<0.5%

3 J/cm²

AR400HT

≤ ø 25.4 mm

380-420 nm

R<0.2%

4 J/cm²

AR515

≤ ø 25.4 mm

500-530 nm

R<0.3%

5 J/cm²

AR515HT

≤ ø 25.4 mm

500-530 nm

R<0.1%

7 J/cm²

AR532

≤ ø 25.4 mm

532 nm

R<0.2%

5 J/cm²

AR532HT

≤ ø 25.4 mm

532 nm

R<0.1%

7 J/cm²

AR800

≤ ø 25.4 mm

760-840 nm

R<0.4%

8 J/cm²

AR800HT

≤ ø 25.4 mm

760-840 nm

R<0.1%

10 J/cm²

AR1030

≤ ø 25.4 mm

1000-1060 nm

R<0.3%

10 J/cm²

AR1030HT

≤ ø 25.4 mm

1000-1060 nm

R<0.1%

15 J/cm²

AR1064

≤ ø 25.4 mm

1064 nm

R<0.2%

10 J/cm²

AR1064HT

≤ ø 25.4 mm

1064 nm

R<0.1%

15 J/cm²

雙波段抗反射鍍膜

型號

基材尺寸

波長

R, %(AOI=0°)

LIDT激光損傷閾值

ARD800HT

≤ ø 25.4 mm

400+800 nm

R<0.2%

4 J/cm²

ARD1030

≤ ø 25.4 mm

515+1030 nm

R<0.5%

4 J/cm²

ARD1030HT

≤ ø 25.4 mm

515+1030 nm

R<0.1%

6 J/cm²

ARD1064

≤ ø 25.4 mm

532+1064 nm

R<0.5%

4 J/cm²

ARD1064HT

≤ ø 25.4 mm

532+1064 nm

R<0.1%

6 J/cm²

寬帶減反射膜

型號

基材尺寸

波長

R, %(AOI=0°)

激光損傷閾值

ARB300

≤ ø 25.4 mm

210-400 nm

R<2%

1 J/cm²

ARB550

≤ ø 25.4 mm

400-700 nm

R<0.9%

2 J/cm²

ARB625

≤ ø 25.4 mm

350-900 nm

R<1.5%

2 J/cm²

ARB825

≤ ø 25.4 mm

650-1100 nm

R<0.7%

3 J/cm²

ARB800

≤ ø 25.4 mm

700-900 nm

R<0.5%

3 J/cm²

ARB800HT

≤ ø 25.4 mm

700-900 nm

R<0.1%

5 J/cm²

ARB1000HT

≤ ø 25.4 mm

900-1100 nm

R<0.1%

5 J/cm²

ARB1375

≤ ø 25.4 mm

1050-1700 nm

R<0.7%

2 J/cm²

Laser Line AR coatings

鍍膜型號

波長

反射率, %

損傷閾值

AOI=0°

AOI=45°

nm

AOI=0°

AOI=45°

Threshold

3005-i0

3005-i45

193

< 1.0

<2.0

1 J/cm2
in 10 ns

3007-i0

3007-i45

248

< 0.8

<1.5

1.5 J/cm2
in 10 ns

3009-i0

3009-i45

266

< 0.4

<1.0

1.5 J/cm2
in 10 ns

3011-i0

3011-i45

308

<0.3

<0.6

1.5 J/cm2
in 10 ns

3014-i0

3014-i45

343

<0.25

<0.5

2 J/cm2
in 10 ns

3015-i0

3015-i45

351-355

< 0.25

<0.5

2 J/cm2
in 10 ns

3017-i0

3017-i45

400

< 0.25

<0.5

2 J/cm2
in 10 ns

3021-i0

3021-i45

488-514

< 0.3

<0.5

2 J/cm2
in 10 ns

3023-i0

3023-i45

515

< 0.2

<0.5

4 J/cm2
in 10 ns

3025-i0

3025-i45

532

< 0.2

<0.5

4 J/cm2
in 10 ns

3027-i0

3027-i45

633-650

< 0.25

<0.5

4 J/cm2
in 10 ns

3031-i0

3031-i45

780

< 0.2

<0.5

5 J/cm2
in 10 ns

3033-i0

3033-i45

800

< 0.2

<0.5

5 J/cm2
in 10 ns

3035-i0

3035-i45

850

< 0.2

<0.5

5 J/cm2
in 10 ns

3036-i0

3036-i45

1030

< 0.2

<0.5

5 J/cm2
in 10 ns

3037-i0

3037-i45

1064

< 0.2

<0.5

5 J/cm2
in 10 ns

3041-i0

3041-i45

1320

<0.3

<0.5

5 J/cm2
in 10 ns

3045-i0

3045-i45

1547

<0.5

<1.0

4 J/cm2
in 10 ns

請與我們聯(lián)系以獲取其他波長和AOI值。

雙波段增透膜

鍍膜型號

波長, nm

反射率, %

損傷閾值

AOI=0°

AOI=45°

 

AOI=0°

AOI=45°

Threshold

3106-i0

3106-i45

266 + 532

<0.5

<1.0

1.5 J/cm2
in 10 ns

3110-i0

3110-i45

355 + 532

<0.5

<1.0

2 J/cm2
in 10 ns

3114-i0

3114-i45

355 + 1064

<0.5

<1.0

2 J/cm2
in 10 ns

3118-i0

3118-i45

400 + 800

<0.5

<1.0

3 J/cm2
in 10 ns

3121-i0

3121-i45


515 + 1030

<0.5

<1.0

4 J/cm2
in 10 ns

3122-i0

3122-i45

532 + 1064

<0.5

<1.0

4 J/cm2
in 10 ns

3126-i0

3126-i45

670 + 1064

<0.5

<1.0

4 J/cm2
in 10 ns

3127-i0

3127-i45

808 + 1064

<0.5

<1.0

4 J/cm2
in 10 ns

3130-i0

3130-i45

1064 +1320

<0.5

<1.0

4 J/cm2
in 10 ns

3134-i0

3134-i45

1064 +1570

<0.5

<1.0

3 J/cm2
in 10 ns

請與我們聯(lián)系以獲取其他波長和AOI值。

寬帶增透膜

寬帶抗反射BBAR鍍膜設計用于在特定波長范圍內(nèi)將組件的反射率降低至接近零。因此，光可以通過復雜的光學系統(tǒng)有效透射，而不會因眩光和散射而丟失。我們的增透膜旨在按正常入射使用，以這種方式使用時將實現(xiàn)較大的效率透射。

鍍膜型號

波長, nm

反射率, %

損傷閾值

AOI=0°

AOI=45°

 

AOI=0°

AOI=45°

Threshold

3205-i0

3205-i45

210-400

<2

<3

1.5 J/cm2
in 10 ns

3207-i0

3207-i45

250-350

<1.2

<2.5

1.5 J/cm2
in 10 ns

3209-i0

3209-i45

300-400

<1.0

<2.0

1.5 J/cm2
in 10 ns

3211-i0

3211-i45

350-500

<0.8

<1.6

2.0 J/cm2
in 10 ns

3213-i0

3213-i45

350-900

<1.5

<3.0

2.0 J/cm2
in 10 ns

3215-i0

3215-i45

400-550

<0.4

<0.8

2.5 J/cm2
in 10 ns

3217-i0

3217-i45

400-700

<0.9

<1.8

3.0 J/cm2
in 10 ns

3219-i0

3219-i45

420-680

<0.5

<1.0

3.0 J/cm2
in 10 ns

3221-i0

3221-i45

450-750

<0.5

<1.0

3.0 J/cm2
in 10 ns

3223-i0

3223-i45

500-800

<0.6

<1.2

3.0 J/cm2
in 10 ns

3224-i0

3224-i45

500-1000

<1.5

<3.0

3.0 J/cm2
in 10 ns

3225-i0

3225-i45

600-900

<0.5

<1.0

3.0 J/cm2
in 10 ns

3227-i0

3227-i45

750-900

<0.5

<1.0

3.0 J/cm2
in 10 ns

3229-i0

3229-i45

800-1200

<0.7

<1.4

2.5 J/cm2
in 10 ns

3231-i0

3231-i45

1000-1400

<0.7

<1.4

2.0 J/cm2
in 10 ns

3232-i0

3232-i45

1050-1700

<1

<1.5

2.0 J/cm2
in 10 ns

3233-i0

3233-i45

1300-1700

<0.7

<1.4

2.0 J/cm2
in 10 ns

3235-i0

3235-i45

1500-2000

<0.7

<1.4

1.5 J/cm2
in 10 ns

這些多層抗反射鍍膜設計用于將一個非常特定的波長的組件的反射率降低到接近零。因此，寶貴的激光能量可以通過復雜的光學系統(tǒng)有效透射，而不會因為眩光和散射而丟失。我們的抗反射（AR）鍍膜旨在按正常入射使用，以這種方式使用時將實現(xiàn)較大的效率透射。

EKSMA OPTICS是激光，激光系統(tǒng)和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學，工業(yè)，醫(yī)學，美學，軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長范圍從紫外（193 nm）到可見光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲（THz）范圍的激光光學組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用，激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體，光機械，帶驅(qū)動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應商，它們用于激光器和其他應用光學儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領域開始其一項業(yè)務，其基礎是在激光和光學領域的長期專業(yè)知識。
公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實驗室的高質(zhì)量測試和認證。 通過嚴格的檢查程序，質(zhì)量控制評估以及對新技術的承諾，我們不斷改進并提供優(yōu)良的質(zhì)量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001：2015認證。 必維檢驗集團（Bureau Veritas）頒發(fā)的認證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設備和擴展制造能力。
公司擁有：?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割，研磨和拋光設備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中，鏡頭由N-BK7，S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學和晶體的，超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設備–基于BBO，DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。EKSMA OPTICS是激光，激光系統(tǒng)和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學，工業(yè)，醫(yī)學，美學，軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長范圍從紫外（193 nm）到可見光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲（THz）范圍的激光光學組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用，激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體，光機械，帶驅(qū)動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應商，它們用于激光器和其他應用光學儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領域開始其一項業(yè)務，其基礎是在激光和光學領域的長期專業(yè)知識。
公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實驗室的高質(zhì)量測試和認證。 通過嚴格的檢查程序，質(zhì)量控制評估以及對新技術的承諾，我們不斷改進并提供優(yōu)良的質(zhì)量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001：2015認證。 必維檢驗集團（Bureau Veritas）頒發(fā)的認證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設備和擴展制造能力。
公司擁有：?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割，研磨和拋光設備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中，鏡頭由N-BK7，S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學和晶體的，超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設備–基于BBO，DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。

 這些多層抗反射鍍膜設計用于將一個非常特定的波長的組件的反射率降低到接近零。因此，寶貴的激光能量可以通過復雜的光學系統(tǒng)有效透射，而不會因為眩光和散射而丟失。我們的抗反射（AR）鍍膜旨在按正常入射使用，以這種方式使用時將實現(xiàn)較大的效率透射。

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